

- Warszawska Szkoła Doktorska
- Studia doktoranckie
Wydarzenia
Zrób doktorat z fizyki!!!
|
|
Więcej... |
Dwie prezentacje z IWC PAN na ICDS-33![]() Miło nam poinformować, że nasz kolega z laboratorium NL-12, Dr Piotr Kruszewski, będzie reprezentował nasz Instytut na konferencji naukowej ICDS-33 (The 33rd International Conference on Defects in Semiconductors), która odbędzie się w dniach 14-19 września 2025 r. w chińskim Szanghaju. Należy podkreślić, iż konferencja ta jest jedną z najbardziej prestiżowych konferencji międzynarodowych poświęconych badaniom defektów w półprzewodnikach a pierwsza konferencja tego cyklu została zapoczątkowana w roku 1959 w Gatlinburg, Tennessee w USA. Znaczącym wyróżnieniem dla naszego Instytutu jest zatem fakt, iż Dr Piotr Kruszewski wygłosi w Szanghaju dwie prezentacje ustne z czego pierwsza poświęcona jest badaniom defektów w warstwach AlxGa1-xN i jest zatytułowana „On the origin of the electrically active defects E1 and E3 in GaN and dilute AlxGa1-xN films grown on Ammono-GaN substrates”. Druga prezentowana praca poświęcona jest tematowi defektów w tlenku galu (Ga2O3) i wpływowi pola elektrycznego na właściwości defektu Ec-0.18 eV w kryształach wzrastanych metodą Czochralskiego. Pełen tytuł referatu to „The electric field influence on EC-0.18 eV electron trap level in (100)-oriented β-Ga2O3 crystals grown by the Czochralski method”. Więcej informacji na temat samej konferencji a także jej szczegółowy program znaleźć można na stronie https://www.icds2025.org/ Publiczna obrona rozprawy doktorskiej mgr. inż. Mikołaja Chlipały![]() Dnia 2 września 2025 r. (wtorek) o godz. 10:00 w sali seminaryjnej Instytutu Wysokich Ciśnień Polskiej Akademii Nauk w Warszawie, ul. Sokołowska 29/37, odbędzie się publiczna obrona rozprawy doktorskiej mgr. inż. Mikołaja Chlipały. Temat rozprawy: „Harnessing built-in fields in group III-nitride light emitters grown by molecular beam epitaxy” Rozprawa doktorska i recenzje dostępne są na stronie BIP IWC PAN
Dr inż Artur Lachowski otrzymał grant NCN SONATINA![]() Z dumą zawiadamiamy, że w rozstrzygniętym przez Narodowe Centrum Nauki (NCN) konkursie SONATINA 9 finansowanie otrzymał projekt dr inż. Artura Lachowskiego z naszego Instytutu. Dr inż. Artur Lachowski w ramach projektu "Optymalizacja wzrostu epitaksjalnego azotku niobu do zastosowań w elektronice nadprzewodzącej" odbędzie sześciomiesięczny staż naukowy w Leibniz-Institut für Kristallzüchtung (IKZ) w Berlinnie w Niemczech. Granty SONATINA to szansa dla osób ze stopniem doktora, które chciałyby rozwijać swoją karierę naukową i zdobyć doświadczenie w roli kierownika projektu. Więcej o projektach SONATNA i pełna lista rankingowa tutaj, a streszczenie projektu pod linkiem. |
IHPP PAS Seminar on Nitride Semiconductors![]() Dear Colleagues, We are pleased to invite you to the next IHPP PAS Seminar on Nitride Semiconductors. The talk will be held in a hybrid mode – at the seminar room in New Technologies building, Al. Prymasa Tysiąclecia 98, and through Zoom platform (to get the link, please contact us at nitride_seminar@mail.unipress.waw.pl ). The talk is scheduled on Thursday 04.09.2025 at 15:00 CEST. Speaker: Dr. Tobias Schulz (Leibniz-Institut für Kristallzüchtung, Berlin, Germany) Title: Cathodoluminescence in a scanning electron microscope operated in transmission mode Abstract: Link Sincerely, Tadeusz Suski Publikacja w Communications Materials o złączach Josephsona wytworzonych metodą MBE![]() Złącza Josephsona stanowią istotny element komputerów kwantowych. Badacze z Laboratorium Epitaksji MBE opublikowali pracę w Nature Communications Materials pokazującą odkrycia o istotnym znaczeniu dla technologii ich wytwarzania. Zaprezentowane zostało nowe podejście do wzrostu warstw nadprzewodzącego azotku niobu (NbN) na podłożach GaN z wykorzystaniem techniki epitaksji z wiązek molekularnych z plazmą azotową (PAMBE) oraz indu jako surfaktanta. Zastosowanie indu podczas epitaksji umożliwiło uzyskanie cienkich warstw NbN o jakości odpowiedniej do zastosowań w złączach Josephsona. W pracy zademonstrowano pierwsze na świecie złącze Josephsona NbN/InAlN/NbN otrzymane metodą MBE. Złącza osiągnęły gęstość prądu krytycznego na poziomie 1 kA/cm². Praca ta pokazuje, że technika MBE może zostać w pełni wykorzystana do integracji NbN z azotkami grupy III, co otwiera drogę do rozwoju nowego typu urządzeń. Pełny artykuł A. Lachowski et al. NbN-based Josephson junctions grown by plasma-assisted molecular beam epitaxy Commun Mater 6, 169 (2025) dostępny jest pod linkiem: https://www.nature.com/articles/s43246-025-00891-3 |
Adresy |